直流电弧原子发射光谱法测定铌、钽中硅含量
来源期刊:理化检验-化学分册2015年第6期
论文作者:马晓敏 王辉 李波 孙宝莲 梁清华 郑伟 王宽
文章页码:859 - 861
关键词:直流电弧原子发射光谱法;硅;铌;钽;
摘 要:通过直流电弧原子发射光谱仪,配备固体多道光学检测器-电感耦合器件,建立了直流电弧原子发射光谱法测定铌、钽中硅含量的方法。硅的分析线为288.160 nm,铌中硅的缓冲剂为碳粉和氯化银,钽中硅的缓冲剂为碳粉。硅的质量分数在0.001%0.100%范围内与其光谱强度呈线性关系,相关系数均在0.999 6以上。加标回收率在97.7%103%之间,测定值的相对标准偏差(n=7)均小于8%。
马晓敏,王辉,李波,孙宝莲,梁清华,郑伟,王宽
西北有色金属研究院
摘 要:通过直流电弧原子发射光谱仪,配备固体多道光学检测器-电感耦合器件,建立了直流电弧原子发射光谱法测定铌、钽中硅含量的方法。硅的分析线为288.160 nm,铌中硅的缓冲剂为碳粉和氯化银,钽中硅的缓冲剂为碳粉。硅的质量分数在0.001%0.100%范围内与其光谱强度呈线性关系,相关系数均在0.999 6以上。加标回收率在97.7%103%之间,测定值的相对标准偏差(n=7)均小于8%。
关键词:直流电弧原子发射光谱法;硅;铌;钽;