基于CFX软件的氮化硅反应炉内热过程的数值模拟

来源期刊：工程科学学报2005年第6期

论文作者：陈锦 杨晶 尹少武 王立

文章页码：710 - 715

关键词：反应炉;氮化硅;温度场;数值模拟;

摘    要：利用大型商业软件CFX建立了高温氮化硅反应炉内温度场的数学模型，采用拟流体模型数值模拟炉内的层流流动，分析了氮气体积流量、各向异性散射和辐射特性等因素对温度场和产物质量浓度的影响．计算结果表明，为确保反应充分完全，预热段温度控制显得非常重要，而氮气体积流量起着决定性的作用；各向异性散射对径向温度、产物质量浓度有一定的影响；散射率对温度场影响很小；计算值与实验值相比较，误差在10％之内．