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反应等离子喷涂TiN涂层电化学腐蚀行为

来源期刊:工程科学学报2009年第9期

论文作者:李莎 阎殿然 董艳春 王师 高国旗 张志彬

文章页码:1147 - 1151

关键词:等离子喷涂;TiN涂层;电化学腐蚀;阻抗谱;

摘    要:利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因.

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反应等离子喷涂TiN涂层电化学腐蚀行为

李莎,阎殿然,董艳春,王师,高国旗,张志彬

河北工业大学材料科学与工程学院

摘 要:利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因.

关键词:等离子喷涂;TiN涂层;电化学腐蚀;阻抗谱;

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