硅酸钠对TC4钛合金微弧氧化电极参数及陶瓷膜的影响

来源期刊：材料保护2011年第2期

论文作者：赵晖 朱其柱 金光 原瑜 万智来

文章页码：14 - 22

关键词：微弧氧化;钛合金;硅酸钠;陶瓷膜;电极参数;

摘    要：硅酸钠是影响微弧氧化过程和微弧氧化膜结构的重要因素之一。采用恒压模式,以Na2SiO3,CH3COONa,EDTA.2Na为溶液,在TC4钛合金表面微弧氧化制备了陶瓷涂层,研究了Na2SiO3浓度对起弧电压,电极电流,陶瓷膜厚度、表面形貌、粗糙度以及陶瓷膜相组成的影响。结果表明:Na2SiO3有降低起弧电压和电极电流的作用;随Na2SiO3浓度的增大,陶瓷膜厚度、表面粗糙度增加;陶瓷膜层主要由锐钛矿型TiO2、金红石型TiO2和无定型硅氧化物相组成,随Na2SiO3浓度的增加,陶瓷膜中的无定型硅氧化物相对含量增加。