纳米SiO2/光敏稀释剂改性EA光固化材料
来源期刊：材料科学与工程学报2007年第5期
论文作者：陈芳 任冬雪 王慧敏 郑耀臣
关键词：纳米SiO3; 光敏稀释剂; 光固化材料; 纳米复合材料;
摘 要：以环氧缩水甘油醚、1,6-己二酸、丙烯酸、KH-550处理的纳米SiO2(HTSi-3)为主要原料合成了光敏稀释剂(AD).环氧丙烯酸酯(EA)、AD、光引发剂和适量助剂配合制成光固化材料,测试了其光聚合反应特征、力学性能和耐热性.结果表明,由含HTSi-3的AD改性EA体系有较快的光固化速度和较高的光固化程度(DOC).另外,用AD对EA改性后,提高了光固化材料的拉伸强度、冲击强度及耐热性.
陈芳1，任冬雪2，王慧敏2，郑耀臣2
(1.威海鲁江实业有限公司,山东,威海,264200;
2.烟台大学,化工系,山东,烟台,264005)
摘要:以环氧缩水甘油醚、1,6-己二酸、丙烯酸、KH-550处理的纳米SiO2(HTSi-3)为主要原料合成了光敏稀释剂(AD).环氧丙烯酸酯(EA)、AD、光引发剂和适量助剂配合制成光固化材料,测试了其光聚合反应特征、力学性能和耐热性.结果表明,由含HTSi-3的AD改性EA体系有较快的光固化速度和较高的光固化程度(DOC).另外,用AD对EA改性后,提高了光固化材料的拉伸强度、冲击强度及耐热性.
关键词:纳米SiO3; 光敏稀释剂; 光固化材料; 纳米复合材料;
【全文内容正在添加中】
