晶粒度与介质中Cl^-浓度对铜表面钝化膜的影响

来源期刊：腐蚀与防护2012年第6期

论文作者：朱振宇 王毅 钟庆东 吴红艳 杜海龙 盛敏奇 周琼宇

文章页码：513 - 517

关键词：Cu;晶粒度;Cl-;钝化膜;Mott-Schottky分析;

摘    要：采用电化学方法以及Mott-schottky理论,研究了两种不同晶粒大小的铜在不同Cl-浓度溶液中的钝化膜形成过程和机理,计算了不同Cl-浓度溶液中铜在0.2V、0.4V两种电位下阳极氧化后钝化膜中的载流子密度。结果表明:铜在不同条件下表面氧化膜的Mott-schottky曲线线性斜率为负,呈现P型半导体的性质,膜中的多数载流子为空穴。随着铜晶粒度的增大和阳极钝化电位的升高,铜表面钝化膜中的受主密度NA降低;随着介质溶液中的Cl-浓度的升高,钝化膜中的受主密度NA不断增大。