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Gd5Si2Ge2/Gd室温磁制冷复合材料激光熔覆成形工艺研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2003年第5期

论文作者：涂铭旌付浩唐永柏陈云贵

关键词：磁制冷材料; 激光熔覆; 金属间化合物; 钆;

摘要：就 Gd5Si2Ge2化合物的激光熔覆成形工艺作了初步研究.实验表明: Gd5Si2Ge2在 Gd基体上可以实现良好的冶金结合.在最小厚度不小于 1mm的基板上,控制激光参数可以使熔覆层的稀释度保持在 10%左右.

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涂铭旌¹，付浩¹，唐永柏¹，陈云贵¹

(1.四川大学,四川,成都,610065)

摘要:就 Gd5Si2Ge2化合物的激光熔覆成形工艺作了初步研究.实验表明: Gd5Si2Ge2在 Gd基体上可以实现良好的冶金结合.在最小厚度不小于 1mm的基板上,控制激光参数可以使熔覆层的稀释度保持在 10%左右.

关键词:磁制冷材料; 激光熔覆; 金属间化合物; 钆;

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