Gd5Si2Ge2/Gd室温磁制冷复合材料激光熔覆成形工艺研究
来源期刊:稀有金属材料与工程2003年第5期
论文作者:涂铭旌 付浩 唐永柏 陈云贵
关键词:磁制冷材料; 激光熔覆; 金属间化合物; 钆;
摘 要:就 Gd5Si2Ge2化合物的激光熔覆成形工艺作了初步研究.实验表明: Gd5Si2Ge2在 Gd基体上可以实现良好的冶金结合.在最小厚度不小于 1mm的基板上,控制激光参数可以使熔覆层的稀释度保持在 10%左右.
涂铭旌1,付浩1,唐永柏1,陈云贵1
(1.四川大学,四川,成都,610065)
摘要:就 Gd5Si2Ge2化合物的激光熔覆成形工艺作了初步研究.实验表明: Gd5Si2Ge2在 Gd基体上可以实现良好的冶金结合.在最小厚度不小于 1mm的基板上,控制激光参数可以使熔覆层的稀释度保持在 10%左右.
关键词:磁制冷材料; 激光熔覆; 金属间化合物; 钆;
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