晶片行星式研磨抛光机运动模拟的研究
来源期刊：机械设计与制造2000年第2期
论文作者：王军 孙军 杨信伟 吕玉山
文章页码：55 - 56
关键词：单晶硅片;研磨;抛光;运动模拟;
摘 要：针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。
王军，孙军，杨信伟，吕玉山
摘 要：针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。
关键词：单晶硅片;研磨;抛光;运动模拟;
