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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征

来源期刊:稀有金属材料与工程2006年第1期

论文作者:赵青南 倪佳苗 赵修建 姜宏 张乃芝 王桂荣

关键词:射频溅射; 玻璃基TiOx-CeO2薄膜; 紫外光截止镀膜玻璃; 基片温度;

摘    要:制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率.结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti4+和Ce4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线.

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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征

赵青南1,倪佳苗1,赵修建1,姜宏2,张乃芝1,王桂荣2

(1.武汉理工大学,硅酸盐材料工程教育部重点实验室,湖北,武汉,430070;
2.中国洛阳浮法玻璃集团有限公司,河南,洛阳,471009)

摘要:制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率.结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti4+和Ce4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线.

关键词:射频溅射; 玻璃基TiOx-CeO2薄膜; 紫外光截止镀膜玻璃; 基片温度;

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