双靶溅射法制作SmS光学薄膜
来源期刊：稀有金属材料与工程2004年第3期
论文作者：黄剑锋 曹丽云
关键词：SmS薄膜; 双靶溅射; 光学薄膜;
摘 要：以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试.结果表明:基板温度低于200℃的情况下;或者在基板温度为400℃,薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜.S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性.
黄剑锋1，曹丽云1
(1.陕西科技大学,陕西,咸阳,712081)
摘要:以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试.结果表明:基板温度低于200℃的情况下;或者在基板温度为400℃,薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜.S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性.
关键词:SmS薄膜; 双靶溅射; 光学薄膜;
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