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氧化钨电致变色薄膜的XPS分析

来源期刊:稀有金属材料与工程2008年第7期

论文作者:孔占兴 李海霞 唐武 邓龙江 翁小龙

关键词:WOx薄膜; 电致变色; 磁控溅射;

摘    要:采用射频磁控溅射工艺,在柔性PET衬底上低温制备电致变色WOx/ITO/PET多层薄膜;利用X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的着、退色态中W元素的价态以及O元素的化合环境.结果表明:WOx薄膜着色态中存在W6+和W5+的混合价态,而在退色态中W元素的化合价仅为W6+;钨离子的不同价态和氧离子的不同化合环境的变化与WOx薄膜的电致变色机制密切相关.

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氧化钨电致变色薄膜的XPS分析

孔占兴1,李海霞1,唐武1,邓龙江1,翁小龙1

(1.电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054)

摘要:采用射频磁控溅射工艺,在柔性PET衬底上低温制备电致变色WOx/ITO/PET多层薄膜;利用X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的着、退色态中W元素的价态以及O元素的化合环境.结果表明:WOx薄膜着色态中存在W6+和W5+的混合价态,而在退色态中W元素的化合价仅为W6+;钨离子的不同价态和氧离子的不同化合环境的变化与WOx薄膜的电致变色机制密切相关.

关键词:WOx薄膜; 电致变色; 磁控溅射;

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