磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响
来源期刊：稀有金属材料与工程2006年第6期
论文作者：徐可为 宋忠孝 王剑锋 范多旺
关键词：磁控溅射; Nb-Si-N; 氮分压; 结构;
摘 要：用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明:Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加.Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小.
徐可为1，宋忠孝2，王剑锋1，范多旺3
(1.西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;
2.西安交通大学,电子物理与器件教育部重点实验室,陕西,西安,710049;
3.兰州交通大学,光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,甘肃,730070)
摘要:用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜.结果表明:Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同.随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加.Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小.
关键词:磁控溅射; Nb-Si-N; 氮分压; 结构;
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