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SrWO4薄膜的电化学制备及室温光致发光特性

来源期刊:功能材料2005年第5期

论文作者:余萍 赖欣 毕剑 肖定全 金亿鑫 高道江

关键词:SrWO4薄膜; 电化学制备; 白钨矿结构; 光致发光;

摘    要:在室温条件下,采用恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的SrWO4晶态薄膜.电化学反应的工艺参数为:电流密度为1mA/cm2、电解液的pH值为12.5、电化学处理时间为1.5h.采用XRD、SEM、XPS技术对制备的SrWO4薄膜进行了表征;首次测试了制备的SrWO4薄膜的室温光致发光光谱,结果表明SrWO4薄膜受到波长为325nm的激光激发后,在400nm附近有一较强的发射光谱,同时在450~580nm波段之间有一个宽的谱带.

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SrWO4薄膜的电化学制备及室温光致发光特性

余萍1,赖欣2,毕剑1,肖定全1,金亿鑫3,高道江1

(1.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064;
2.四川师范大学,化学学院,四川,成都,610066;
3.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021)

摘要:在室温条件下,采用恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的SrWO4晶态薄膜.电化学反应的工艺参数为:电流密度为1mA/cm2、电解液的pH值为12.5、电化学处理时间为1.5h.采用XRD、SEM、XPS技术对制备的SrWO4薄膜进行了表征;首次测试了制备的SrWO4薄膜的室温光致发光光谱,结果表明SrWO4薄膜受到波长为325nm的激光激发后,在400nm附近有一较强的发射光谱,同时在450~580nm波段之间有一个宽的谱带.

关键词:SrWO4薄膜; 电化学制备; 白钨矿结构; 光致发光;

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