工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响
来源期刊:功能材料与器件学报2010年第3期
论文作者:汪海波 俞沁聪 刘卫丽 宋志棠 张楷亮
文章页码:206 - 210
关键词:蓝宝石;化学机械抛光(CMP);二氧化硅;pH值;Heresy系数;
摘 要:系统研究了抛光液的pH值、抛光压力和相对转速等因素对蓝宝石抛光速率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:随pH值(9-12)的升高,抛光速率增加,表面粗糙度先降低后升高;随抛光压力和相对转速的增加,抛光速率先增加后降低,表面粗糙度先降低后升高。研究分析认为:pH值因影响在蓝宝石表面形成的水化层从而影响抛光速率和粗糙度;与抛光压力和相对转速相关的Hersey系数对抛光效果影响很大,当Hersey系数为24时,蓝宝石的抛光速率和表面平整度均达到最佳。
汪海波,俞沁聪,刘卫丽,宋志棠,张楷亮
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室、纳米技术研究室
摘 要:系统研究了抛光液的pH值、抛光压力和相对转速等因素对蓝宝石抛光速率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:随pH值(9-12)的升高,抛光速率增加,表面粗糙度先降低后升高;随抛光压力和相对转速的增加,抛光速率先增加后降低,表面粗糙度先降低后升高。研究分析认为:pH值因影响在蓝宝石表面形成的水化层从而影响抛光速率和粗糙度;与抛光压力和相对转速相关的Hersey系数对抛光效果影响很大,当Hersey系数为24时,蓝宝石的抛光速率和表面平整度均达到最佳。
关键词:蓝宝石;化学机械抛光(CMP);二氧化硅;pH值;Heresy系数;