热氧化温度对非平衡磁控溅射TiN镀层的影响
来源期刊：兵器材料科学与工程2009年第4期
论文作者：白力静 蒋百灵 梁戈
关键词：TiN镀层; 热氧化; 非平衡磁控溅射; TiN coatings; thermal oxidization; unbalanced magnetron sputtering;
摘 要：通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化.结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO_2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效.
白力静1，蒋百灵1，梁戈1
(1.西安理工大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710048)
摘要:通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化.结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO_2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效.
关键词:TiN镀层; 热氧化; 非平衡磁控溅射; TiN coatings; thermal oxidization; unbalanced magnetron sputtering;
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