热烧结及其退火工艺对玻璃衬底印刷碳纳米管薄膜场发射的影响
来源期刊：材料导报2009年第4期
论文作者：魏舒怡 张秀霞
关键词：碳纳米管; 丝网印刷; 场致发射; 热烧结; 退火后处理;
摘 要：通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线, 250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K.结果表明,623K、15min是样品退火后处理的最佳条件,适宜的退火后处理使CNTF场发射趋于均匀.
魏舒怡1，张秀霞2
(1.中国科学院研究生院,北京,100049;
2.北方民族大学电气信息工程学院,银川,750021)
摘要:通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线, 250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K.结果表明,623K、15min是样品退火后处理的最佳条件,适宜的退火后处理使CNTF场发射趋于均匀.
关键词:碳纳米管; 丝网印刷; 场致发射; 热烧结; 退火后处理;
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