Fe-Ga薄膜的微结构与磁性能研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2017年第2期
论文作者：王天乐 冯尚申 李艳萍 李志刚 邵先亦 蔡培阳
文章页码：406 - 410
关键词：Fe-Ga薄膜;磁控溅射;薄膜结构;磁性能;磁畴;
摘 要：采用磁控溅射方法,以Si（1OO）为衬底在4080 W功率下制备了Fe83Ga17薄膜,通过XRD、SEM、室温磁滞回线以及MFM的测量研究了不同溅射功率制备的Fe-Ga薄膜的结构、形貌、磁性能和磁畴。XRD结果表明室温下薄膜样品是bcc（11O）晶体结构。SEM观察结果表明薄膜颗粒尺寸在4070 nm且随着功率增大,薄膜颗粒的尺寸变大,薄膜厚度增加。室温磁滞回线的测量结果表明一定范围内随着功率增大,样品的矫顽力Hc总体呈上升趋势,饱和磁化强度Ms的变化规律并不明显,剩余磁化强度M和矩形比Mr/Ms呈缓慢下降的趋势。磁畴的观察结果表明样品的磁畴为迷宫畴结构,且随着功率增大,磁畴的尺寸增大。
王天乐1,2，冯尚申2，李艳萍1,2，李志刚2，邵先亦2，蔡培阳2
1. 浙江理工大学2. 台州学院
摘 要：采用磁控溅射方法,以Si（1OO）为衬底在4080 W功率下制备了Fe83Ga17薄膜,通过XRD、SEM、室温磁滞回线以及MFM的测量研究了不同溅射功率制备的Fe-Ga薄膜的结构、形貌、磁性能和磁畴。XRD结果表明室温下薄膜样品是bcc（11O）晶体结构。SEM观察结果表明薄膜颗粒尺寸在4070 nm且随着功率增大,薄膜颗粒的尺寸变大,薄膜厚度增加。室温磁滞回线的测量结果表明一定范围内随着功率增大,样品的矫顽力Hc总体呈上升趋势,饱和磁化强度Ms的变化规律并不明显,剩余磁化强度M和矩形比Mr/Ms呈缓慢下降的趋势。磁畴的观察结果表明样品的磁畴为迷宫畴结构,且随着功率增大,磁畴的尺寸增大。
关键词：Fe-Ga薄膜;磁控溅射;薄膜结构;磁性能;磁畴;
