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Si3N4粉体表面分析及偶联剂作用量的选择

来源期刊：无机材料学报2002年第5期

论文作者：司文捷苗赫濯颜鲁婷齐龙浩

关键词：表面分析; 氧化; 水解; 偶联剂;

摘要：在Si3N4粉体的生产和存储过程中,氧化和水解是两个不利的因素,但在偶联剂的作用下,它们在提高陶瓷粉体与有机载体的相容性方面起到了促进作用.本文测定了未经处理的Si3N4粉及通过氧化和水解改性的Si3N4粉的表面性质,并分析了它们对偶联剂选择作用量的影响.

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司文捷¹，苗赫濯¹，颜鲁婷¹，齐龙浩¹

(1.清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084)

摘要:在Si3N4粉体的生产和存储过程中,氧化和水解是两个不利的因素,但在偶联剂的作用下,它们在提高陶瓷粉体与有机载体的相容性方面起到了促进作用.本文测定了未经处理的Si3N4粉及通过氧化和水解改性的Si3N4粉的表面性质,并分析了它们对偶联剂选择作用量的影响.

关键词:表面分析; 氧化; 水解; 偶联剂;

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