FeCrNiMoCu高熵合金涂层的多靶磁控共溅射制备及微结构分析

刘春海^1,2，蒲国^1,2，张伟¹，颜成杰³，崔学军^1,2，陈昶⁴，金永中^1,2

1. 四川理工学院2. 材料腐蚀与防护四川省重点实验室3. 宜宾红星电子有限公司4. 乐山师范学院

摘 要：采用多靶磁控共溅射技术的单靶功率可调特点,在304不锈钢基体上,制备出了FeCrNiMoCu高熵合金涂层。通过纳米压入(Nanoindentation)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等对不同组分含量的FeCrNiMoCu高熵合金涂层的纳米硬度、微观结构及形貌进行了表征。结果表明:磁控共溅射法制备的FeCrNiMoCu涂层具有简单的fcc结构和高的纳米硬度,表面硬度随铁元素含量上升而增加。

关键词：磁控共溅射;高熵合金涂层;微结构;纳米硬度;