基体偏压对磁控溅射制备CrAlN纳米多层薄膜微观结构和力学性能的影响
来源期刊：机械工程材料2021年第3期
论文作者：王宇星 张侠
文章页码：41 - 45
关键词：CrAlN纳米多层薄膜;磁控溅射;基体偏压;微观结构;力学性能;
摘 要：采用磁控溅射技术在不同基体偏压（-60,-70,-80,-90 V）下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明:随着基体偏压绝对值增大,CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加,物相组成不变,择优取向由CrN（111）晶面转变为CrN（200）晶面,薄膜表面孔隙减少,组织致密性得到改善;基体偏压为-60～-80 V时,偏压对薄膜沉积速率的影响较小,偏压绝对值大于80 V时,沉积速率明显下降;随着基体偏压绝对值增大,薄膜的硬度和弹性模量提高,膜基结合力先增大后减小,在偏压为-80 V时达到最大。
王宇星1,2，张侠1
1. 上海城建职业学院机电工程与信息学院2. 浙江工业大学材料科学与工程学院
摘 要：采用磁控溅射技术在不同基体偏压（-60,-70,-80,-90 V）下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明:随着基体偏压绝对值增大,CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加,物相组成不变,择优取向由CrN（111）晶面转变为CrN（200）晶面,薄膜表面孔隙减少,组织致密性得到改善;基体偏压为-60～-80 V时,偏压对薄膜沉积速率的影响较小,偏压绝对值大于80 V时,沉积速率明显下降;随着基体偏压绝对值增大,薄膜的硬度和弹性模量提高,膜基结合力先增大后减小,在偏压为-80 V时达到最大。
关键词：CrAlN纳米多层薄膜;磁控溅射;基体偏压;微观结构;力学性能;
