磁控溅射Fe-N单层膜的研究
来源期刊：金属功能材料2000年第3期
论文作者：赵春生 田中卓 李华飚 常香荣 顾有松 张永平 乔祎 周剑平
关键词：饱和磁化强度; 矫顽力; 磁控溅射; Fe-N膜;
摘 要：本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射,氮流量对Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.实验表明,基片温度为200℃有助于提高Fe-N薄膜的软磁性能.基片为室温和100℃,氮流量在0～2sccm范围内变化时,未发现γ＇-Fe4N和α″-Fe16N2,薄膜中只有N在α-Fe中的固溶体.基片温度200℃,氮流量大于1.0sccm时,薄膜中出现γ′-Fe4N,但仍未发现α″-Fe16N2,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁.当氮流量是1.0sccm,温度200℃时,矫顽力达到最小值,Hc＝306.6A/m.当氮流量是0.5sccm,温度是200℃时,饱和磁化强度达到4πMs＝2.3T.
赵春生1，田中卓1，李华飚1，常香荣1，顾有松1，张永平1，乔祎2，周剑平1
(1.北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083;
2.北京科技大学国家新金属材料重点实验室,北京,100083)
摘要:本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射,氮流量对Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.实验表明,基片温度为200℃有助于提高Fe-N薄膜的软磁性能.基片为室温和100℃,氮流量在0～2sccm范围内变化时,未发现γ＇-Fe4N和α″-Fe16N2,薄膜中只有N在α-Fe中的固溶体.基片温度200℃,氮流量大于1.0sccm时,薄膜中出现γ′-Fe4N,但仍未发现α″-Fe16N2,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁.当氮流量是1.0sccm,温度200℃时,矫顽力达到最小值,Hc＝306.6A/m.当氮流量是0.5sccm,温度是200℃时,饱和磁化强度达到4πMs＝2.3T.
关键词:饱和磁化强度; 矫顽力; 磁控溅射; Fe-N膜;
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