由氨解法制备的Si3N4粉末的表面元素状态
来源期刊：工程科学学报1991年第S2期
论文作者：葛昌纯 夏元洛 谢建刚 黄向东 丁宇 张建伟
文章页码：1 - 6
关键词：表面光电子能谱分析;氮化硅;粉末;热分解;
摘 要：用XPS表面分析,研究了由氨解法在不同温度下热解所得的Si3N4粉末,并与由硅粉氮化所得的商用Si3N4粉末作了比较。由氨解法制备的Si3N4粉末其表面存在两种状态的氧:结合状态的氧和吸附态的氧,其表面组成为Si2.2-2.7N2.9-3.7O。由硅粉氮化所制得Si3N4其表面也存在两种状态的氧,其表面组成则为Si0.8N0.8O。
葛昌纯，夏元洛，谢建刚，黄向东，丁宇，张建伟
摘 要：用XPS表面分析,研究了由氨解法在不同温度下热解所得的Si3N4粉末,并与由硅粉氮化所得的商用Si3N4粉末作了比较。由氨解法制备的Si3N4粉末其表面存在两种状态的氧:结合状态的氧和吸附态的氧,其表面组成为Si2.2-2.7N2.9-3.7O。由硅粉氮化所制得Si3N4其表面也存在两种状态的氧,其表面组成则为Si0.8N0.8O。
关键词：表面光电子能谱分析;氮化硅;粉末;热分解;
