Ti-Si-N纳米复合超硬薄膜的高温热稳定性
来源期刊：稀有金属材料与工程2005年第11期
论文作者：徐可为 马大衍 马胜利 徐建华
关键词：等离子体增强化学气相沉积(PCVD); Ti-Si-N薄膜; 微观结构,高温热稳定性;
摘 要：用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢(HSS)基体上制备了Ti-Si-N薄膜,重点从不同温度退火后薄膜相结构、晶粒尺寸和显微硬度的变化等方面,探讨了不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的高温热稳定性.结果表明:Ti-Si-N薄膜在900℃以内退火处理后,晶粒尺寸和显微硬度并无明显突变,尤其是Si含量较低时,在800℃,晶粒尺寸和显微硬度几乎没有变化,表明Ti-Si-N薄膜具有非常良好的高温热稳定性,这可能与薄膜相形成在高温下仍为调幅分解有关.
徐可为1，马大衍1，马胜利1，徐建华1
(1.西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049)
摘要:用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢(HSS)基体上制备了Ti-Si-N薄膜,重点从不同温度退火后薄膜相结构、晶粒尺寸和显微硬度的变化等方面,探讨了不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的高温热稳定性.结果表明:Ti-Si-N薄膜在900℃以内退火处理后,晶粒尺寸和显微硬度并无明显突变,尤其是Si含量较低时,在800℃,晶粒尺寸和显微硬度几乎没有变化,表明Ti-Si-N薄膜具有非常良好的高温热稳定性,这可能与薄膜相形成在高温下仍为调幅分解有关.
关键词:等离子体增强化学气相沉积(PCVD); Ti-Si-N薄膜; 微观结构,高温热稳定性;
【全文内容正在添加中】
