氧化钒薄膜成分及价态的深度刻蚀分析
来源期刊：材料导报2009年第22期
论文作者：蒋亚东 田忠 吴志明 魏雄邦 贾宇明 廖家轩
关键词：氧化钒薄膜; 深度刻蚀; 成分; 价态; vanadium oxide thin film; deep-scan; composition; valence;
摘 要：采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜.采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析.结果表明,随薄膜刻蚀深度的增加,薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变,当薄膜刻蚀深度小于80nm时,这一递变趋势尤为明显.认为这与氧化钒薄膜中各价态钒氧化合物的稳定性和薄膜的制备工艺密切相关.
蒋亚东1，田忠2，吴志明1，魏雄邦2，贾宇明2，廖家轩2
(1.电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;
2.电子科技大学电子科学技术研究院,成都,610054)
摘要:采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜.采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析.结果表明,随薄膜刻蚀深度的增加,薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变,当薄膜刻蚀深度小于80nm时,这一递变趋势尤为明显.认为这与氧化钒薄膜中各价态钒氧化合物的稳定性和薄膜的制备工艺密切相关.
关键词:氧化钒薄膜; 深度刻蚀; 成分; 价态; vanadium oxide thin film; deep-scan; composition; valence;
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