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热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备纳米晶金刚石膜的研究

来源期刊:材料导报2015年第4期

论文作者:彭鸿雁 赵万邦 赵立新 姜宏伟 孙丽

文章页码:6 - 26

关键词:纳米晶金刚石膜;热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积;氩气/甲烷/氢气混合气;

摘    要:采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由约600nm减小到约30nm。金刚石膜Raman谱中金刚石特征峰逐渐减弱,石墨G峰逐渐增强,反式聚乙炔特征峰及其伴峰强度加大。等离子体光谱分析表明C2是生长纳米晶金刚石膜的主要活性基团。

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热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备纳米晶金刚石膜的研究

彭鸿雁1,赵万邦2,赵立新3,姜宏伟3,孙丽1

1. 海南师范大学物理与电子工程学院2. 大连理工大学汽车工程学院3. 牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室

摘 要:采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由约600nm减小到约30nm。金刚石膜Raman谱中金刚石特征峰逐渐减弱,石墨G峰逐渐增强,反式聚乙炔特征峰及其伴峰强度加大。等离子体光谱分析表明C2是生长纳米晶金刚石膜的主要活性基团。

关键词:纳米晶金刚石膜;热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积;氩气/甲烷/氢气混合气;

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