硅片表面原子层沉积Al₂O₃薄膜及其长期腐蚀行为

尹亮^1,2，孙欣宇^1,2，孔继周^1,2，王谦之^1,2，周飞^1,2

1. 南京航空航天大学机电学院2. 南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室

摘 要：目前,对硅基材表面利用原子层沉积技术（ALD）制备的Al₂O₃薄膜的耐蚀性鲜见研究报道。利用ALD技术在硅片表面制备非晶Al₂O₃薄膜。采用扫描电镜（SEM）观察薄膜的表面及截面形貌;采用X射线光电子能谱仪（XPS）分析薄膜的价键结构;通过交流阻抗谱和动电位极化曲线研究硅基材与薄膜在不同浸泡时间下的耐腐蚀性能;采用光学显微镜观察腐蚀过程中基材与薄膜的表面形貌。结果表明:ALD非晶态Al₂O₃薄膜具有致密结构,在浸泡过程中,镀膜基材比裸基材具有更好的耐腐蚀性能;且在长期浸泡情况下,Al₂O₃薄膜对基材仍能起到良好的保护作用。

关键词：原子层沉积;Al2O3薄膜;长期浸泡;耐腐蚀性能;