硅烷偶联剂改性纳米SiO2的分散性能
来源期刊：材料开发与应用2014年第3期
论文作者：刘彦生 王红燕 杨建文
文章页码：56 - 60
关键词：纳米SiO2;硅烷偶联剂;表面改性;分散性能;
摘 要：用硅烷偶联剂KH-570对纳米SiO2进行表面改性,用红外光谱仪（IR）、热重（TA）、Zeta电位、SEM、性能测试等对改性纳米SiO2进行了研究,结果表明,偶联剂KH-570与SiO2化学结合形成了Si—O—Si键,其附着量约5.8%,结合溶剂水约10.35%;改性纳米SiO2在乙醇介质中的Zeta电位由-14.9 mV减小到-41.1mV,体系稳定性可达60 h以上;改性SiO2用作光固化牙科复合树脂的填料,分散性显著提高,其维氏硬度、压缩强度、弹性弯曲强度等性能提高10%以上。
刘彦生1，王红燕2，杨建文1
1. 桂林理工大学化学与生物工程学院2. 西北矿冶研究院
摘 要：用硅烷偶联剂KH-570对纳米SiO2进行表面改性,用红外光谱仪（IR）、热重（TA）、Zeta电位、SEM、性能测试等对改性纳米SiO2进行了研究,结果表明,偶联剂KH-570与SiO2化学结合形成了Si—O—Si键,其附着量约5.8%,结合溶剂水约10.35%;改性纳米SiO2在乙醇介质中的Zeta电位由-14.9 mV减小到-41.1mV,体系稳定性可达60 h以上;改性SiO2用作光固化牙科复合树脂的填料,分散性显著提高,其维氏硬度、压缩强度、弹性弯曲强度等性能提高10%以上。
关键词：纳米SiO2;硅烷偶联剂;表面改性;分散性能;
