烧结条件对（α+β）-Sialon陶瓷组织与性能的影响

来源期刊：粉末冶金材料科学与工程1998年第3期

论文作者：黄泽培

文章页码：216 - 220

关键词：氮化硅（Si₃N₄）陶瓷;致密化速度;热压烧结;

摘    要：系统地讨论了两种不同的烧结方法对（α+β）-Sialon系统相形成、显微结构及性能的影响。实验结果表明:同样的烧结参数,热压烧结制备的（α+β）-Sialon具有较好的显微结构和强度,这是由于外加推动力加速了材料的烧结过程,提高了致密度,因而提高了材料性能。讨论了温度、时间和加热速率的影响。结果表明:最适宜的无压烧结和热压烧结温度分别为1750～1800℃和1700～1750℃,烧结时间分别为120 min和60 min。两种烧结方法的最佳升温速率均为15～20℃/min。