负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N膜的影响
来源期刊:稀有金属材料与工程2010年第S1期
论文作者:付志强 王成彪 李金丽 于翔 彭志坚
文章页码:316 - 319
关键词:(Ti,Cr)N薄膜;多弧离子镀;负偏压;表面缺陷;
摘 要:利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N薄膜表面缺陷、表面粗糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响。结果发现:随着负偏压的增加,(Ti,Cr)N薄膜的液滴受到抑制,表面粗糙度下降,沉积速率降低,硬度增加,但负偏压对薄膜的Cr含量影响较小。
付志强,王成彪,李金丽,于翔,彭志坚
中国地质大学(北京)
摘 要:利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N薄膜表面缺陷、表面粗糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响。结果发现:随着负偏压的增加,(Ti,Cr)N薄膜的液滴受到抑制,表面粗糙度下降,沉积速率降低,硬度增加,但负偏压对薄膜的Cr含量影响较小。
关键词:(Ti,Cr)N薄膜;多弧离子镀;负偏压;表面缺陷;