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脉冲偏压占空比对电弧离子镀TiAlN涂层的影响

来源期刊:稀有金属材料与工程2018年第11期

论文作者:付志强 苗志玲 岳文 王成彪 康嘉杰 朱丽娜 彭志坚

文章页码:3482 - 3486

关键词:电弧离子镀;脉冲偏压;占空比;TiAlN涂层;

摘    要:通过优化电弧离子镀工艺参数改善TiAlN涂层结构及性能对TiAlN涂层应用具有重要的实用价值。本研究利用脉冲偏压电弧离子镀制备了TiAlN涂层,研究了偏压占空比对TiAlN涂层结构及性能的影响,结果发现:随着占空比增加,涂层表面缺陷密度和表面粗糙度先降低后增大,占空比为70%时,制备的涂层表面缺陷密度和表面粗糙度最低。随着占空比增加,涂层的硬度和耐磨性得到明显改善,但占空比超过50%后继续增加占空比反而降低了涂层的硬度和耐磨性。TiAlN涂层与Si3N4球对磨时的主要磨损机制为黏着磨损和氧化磨损。

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脉冲偏压占空比对电弧离子镀TiAlN涂层的影响

付志强,苗志玲,岳文,王成彪,康嘉杰,朱丽娜,彭志坚

中国地质大学(北京)工程技术学院

摘 要:通过优化电弧离子镀工艺参数改善TiAlN涂层结构及性能对TiAlN涂层应用具有重要的实用价值。本研究利用脉冲偏压电弧离子镀制备了TiAlN涂层,研究了偏压占空比对TiAlN涂层结构及性能的影响,结果发现:随着占空比增加,涂层表面缺陷密度和表面粗糙度先降低后增大,占空比为70%时,制备的涂层表面缺陷密度和表面粗糙度最低。随着占空比增加,涂层的硬度和耐磨性得到明显改善,但占空比超过50%后继续增加占空比反而降低了涂层的硬度和耐磨性。TiAlN涂层与Si3N4球对磨时的主要磨损机制为黏着磨损和氧化磨损。

关键词:电弧离子镀;脉冲偏压;占空比;TiAlN涂层;

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