退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响

王福会¹，张文杰²，王宏²，朱圣龙¹，李瑛¹

(1.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;
2.沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110168)

摘要:采用磁控反应溅射制备了纯TiO_2薄膜和Fe掺杂的TiO_2薄膜,研究了退火对2种TiO_2薄膜结构和光催化活性的影响.退火前TiO_2薄膜与基体结合良好,退火后薄膜发生了开裂,薄膜与基体的结合变差.TiO_2薄膜在700℃以下退火后仍保持着锐钛矿型晶体结构,但衍射峰的强度有明显的增强,说明组成薄膜的晶粒在退火过程中长大;当退火温度高于800℃时,发生了从锐钛矿向金红石型的转变.退火后TiO_2薄膜的紫外可见光透射率有较大辐度的下降;甲基橙溶液的光催化降解速率随着退火温度升高而下降.

关键词:TiO_2薄膜; 磁控溅射; 退火; 光催化活性; TiO_2 film; magnetron sputtering; annealing; photocatalytic activity;

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