从KF-Li₂B₄O₇-Li₂MoO₄熔盐中平滑电积钼

来源期刊：中国钼业1992年第5期

论文作者：K.Koyama 许孙曲

文章页码：28 - 34

摘    要：在1025～1173K温度范围和110～330A/m²电流密度范围内,用电解法在KF-Li₂B₄O₇-Li₂MoO₄熔盐中的铜、镍、钼和不锈钢基体上沉积出粘附且目视平滑的钼镀层。这种镀层的硬度比由KF-B₂O₃-MoO₃,KF-B₂O₃-Na₂MoO₄,KF-B₂O₃-K₂MoO₄和KF-Na₂B₄O₇-Na₂MoO₄熔盐获得的平滑电积层低得多。既使采用石墨电解槽,也与用等离子体弧熔化工业用钼片制得的钼珠差不多或更低。采用石墨阳极也能获得平滑钼镀层,尽管含有少量Mo₂C。