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2-氨基苯并噻唑与苯并三氮唑复配体系对Cu的缓蚀性能

来源期刊:中国腐蚀与防护学报2020年第6期

论文作者:卢爽 任正博 谢锦印 刘琳

文章页码:577 - 584

关键词:Cu;2-氨基苯并噻唑;苯并三氮唑;自组装膜;协同效应;缓蚀;

摘    要:采用分子自组装技术在Cu表面制备缓蚀膜。通过电化学方法分别测试2-氨基苯并噻唑(ABT),苯并三氮唑(BTA)单独存在和复配后的性能,考察了复配缓蚀剂的配比和浓度两个因素的影响。通过动力学,并结合场发射扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(RAM)和光学接触角(CA)分析,探讨了缓蚀机理;通过计算协同参数S来衡量ABT和BTA协同效应的强弱。结果表明,当总浓度为20 mmol/L,各自比例占50%时,缓蚀率可达96.34%。两种缓蚀剂同时存在物理吸附(分子间作用力)和化学吸附(孤对电子和金属空轨道结合形成配位化合物),且在铜片表面形成致密且有序的保护膜。同时,经ABT-BTA组装的Cu表面的接触角较大,表面粗糙度较小;ABT比例为50%时,S=25.32,在此条件下协同作用较强。

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2-氨基苯并噻唑与苯并三氮唑复配体系对Cu的缓蚀性能

卢爽,任正博,谢锦印,刘琳

渤海大学化学与材料工程学院功能化合物的合成及应用辽宁省重点实验室

摘 要:采用分子自组装技术在Cu表面制备缓蚀膜。通过电化学方法分别测试2-氨基苯并噻唑(ABT),苯并三氮唑(BTA)单独存在和复配后的性能,考察了复配缓蚀剂的配比和浓度两个因素的影响。通过动力学,并结合场发射扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(RAM)和光学接触角(CA)分析,探讨了缓蚀机理;通过计算协同参数S来衡量ABT和BTA协同效应的强弱。结果表明,当总浓度为20 mmol/L,各自比例占50%时,缓蚀率可达96.34%。两种缓蚀剂同时存在物理吸附(分子间作用力)和化学吸附(孤对电子和金属空轨道结合形成配位化合物),且在铜片表面形成致密且有序的保护膜。同时,经ABT-BTA组装的Cu表面的接触角较大,表面粗糙度较小;ABT比例为50%时,S=25.32,在此条件下协同作用较强。

关键词:Cu;2-氨基苯并噻唑;苯并三氮唑;自组装膜;协同效应;缓蚀;

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