磁控溅射Zr掺杂ITO薄膜在3种模拟腐蚀环境中的电学稳定性和耐腐蚀性

来源期刊：材料保护2012年第6期

论文作者：朱葛俊 张波 徐良

文章页码：32 - 144

关键词：磁控溅射;ITO薄膜;Zr掺杂;电学稳定性;耐腐蚀性;腐蚀环境;

摘    要：过去,鲜有Zr掺杂氧化铟锡(ITO)薄膜电学稳定性及耐蚀性的研究报道。采用磁控溅射法制备了ITO薄膜和Zr掺杂ITO薄膜(ITO∶Zr),研究了2种薄膜的微观结构、光电性能及其在3种模拟腐蚀环境(酸性、海洋、工业)腐蚀液中的电学稳定性及耐腐蚀性。结果表明:Zr的掺杂导致了ITO薄膜择优取向向(400)晶面转变,ITO∶Zr薄膜比ITO薄膜具有更好的光电性能;2种薄膜在3种环境介质中都能发生自钝化,在工业环境中具有最好的耐腐蚀性能;ITO∶Zr薄膜比ITO薄膜具有更好的电学稳定性和耐腐蚀性。