氮化碳薄膜的结构与特性
来源期刊：无机材料学报2001年第2期
论文作者：贺德衍 陈光华 吴现成
关键词：化学气相沉积; 氮化碳; 薄膜; 扫描电镜; 硬度;
摘 要：采用射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)+负偏压热丝辅助方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射测试表明,薄膜同时含有α-和β-C3N4晶相以及未知结构,没有观测到石墨衍射峰.利用扫描电子显微镜观测到线度约2μm、横截面为六边形的β-C3N4晶粒.纳米压痕法测得薄膜的硬度达72.66 Gpa.
贺德衍1，陈光华2，吴现成1
(1.兰州大学物理系,;
2.兰州大学物理系；北京工业大学应用物理系)
摘要:采用射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)+负偏压热丝辅助方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射测试表明,薄膜同时含有α-和β-C3N4晶相以及未知结构,没有观测到石墨衍射峰.利用扫描电子显微镜观测到线度约2μm、横截面为六边形的β-C3N4晶粒.纳米压痕法测得薄膜的硬度达72.66 Gpa.
关键词:化学气相沉积; 氮化碳; 薄膜; 扫描电镜; 硬度;
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