离子源辅助电弧离子镀制备MoSx自润滑涂层

李助军¹，刘怡飞¹，田灿鑫^1,2，杨兵²，付德君²，苏峰华³

1. 广州铁路职业技术学院机械与电子学院2. 武汉大学加速器实验室3. 华南理工大学机械与汽车工程学院

摘 要：以Ar为输送气体,H₂S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si（100）和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H₂S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据。结果表明,H₂S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响。随H₂S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35（对磨材料硬质合金）。H₂S可以作为S源通过中空阴极离子源离化作用为MoSx自润滑涂层的制备提供S元素;电弧离子镀制备出的MoSx自润滑涂层为金属Mo纳米晶粒与非晶MoS、MoS₂组成的纳米复合结构。

关键词：自润滑涂层;中空阴极弧光离子源;电弧离子镀;MoSx涂层;力学性能;