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脉冲激光气相沉积技术现状与进展

来源期刊：材料导报2003年第12期

论文作者：张超唐永建周岳亮吴卫东孙卫国陈正豪程新路

关键词：脉冲激光沉积; 熔蚀; 薄膜; 进展;

摘要：介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况.大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一.

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张超¹，唐永建²，周岳亮³，吴卫东¹，孙卫国¹，陈正豪³，程新路¹

(1.四川大学原子与分子物理研究所,成都,610064;
2.中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;
3.中国科学院物理研究所,北京,100080)

摘要:介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况.大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一.

关键词:脉冲激光沉积; 熔蚀; 薄膜; 进展;

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