光学玻璃抛光材料用超细CeO₂前驱体的制备

来源期刊：稀有金属与硬质合金2003年第3期

论文作者：李进 何小彬 辜子英 胡平贵 彭德院 李永绣

文章页码：1 - 4

关键词：超细CeO2;抛光粉前驱体;抛光材料;

摘    要：以低铈混合氯化稀土为原料,NH3·H2O为沉淀剂,空气和H2O2为氧化剂,经选择性氧化沉淀、洗涤、烘干、煅烧制备用于光学玻璃抛光材料的超细CeO2前驱体。研究了氧化沉淀条件与加料方式对前驱体中氧化铈含量的影响,以及煅烧温度与前驱体粉末粒度、比表面和物相组成的相关关系。结果表明:采取正序滴加进料方式,控制沉淀过程pH值在4.5～5.5范围,可以使Ce3+氧化成Ce4+并形成氢氧化物沉淀而与其他稀土离子分离,沉淀物在600～700℃煅烧,得到CeO2含量大于80%,中位粒径D50小于1.5μm的超细CeO2抛光粉前驱体。