反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
来源期刊：功能材料与器件学报2000年第4期
论文作者：张永刚 魏红振 余金中 李玉鉴 刘忠立 陆建祖 林世鸣
关键词：干法刻蚀; 工艺仿真; 人工神经网络;
摘 要：以SF6/N2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法:在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比,并且以仿真实验数据训练模型学习,模型具有通用性,与设备无关.
张永刚1，魏红振1，余金中1，李玉鉴1，刘忠立1，陆建祖1，林世鸣1
(1.集成光电子学国家实验室,中国科学院半导体所,北京100083)
摘要:以SF6/N2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法:在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比,并且以仿真实验数据训练模型学习,模型具有通用性,与设备无关.
关键词:干法刻蚀; 工艺仿真; 人工神经网络;
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