抗蚀剂的研究进展
来源期刊:材料导报2000年第6期
论文作者:王劲 冯宗财 王跃川
关键词:抗蚀剂; 辐射固化; 图形加工; 印制电路;
摘 要:综述了紫外光曝光的抗蚀剂、电子射线抗蚀剂、X射线抗蚀剂、电沉积抗蚀剂的组成、成像原理和分辨率,并对几种高性能抗蚀剂的原理及用于抗蚀剂的新材料做了介绍.
王劲1,冯宗财1,王跃川1
(1.四川大学高分子材料工程国家重点实验室,四川大学高分子材料科学与工程系,成都,610065)
摘要:综述了紫外光曝光的抗蚀剂、电子射线抗蚀剂、X射线抗蚀剂、电沉积抗蚀剂的组成、成像原理和分辨率,并对几种高性能抗蚀剂的原理及用于抗蚀剂的新材料做了介绍.
关键词:抗蚀剂; 辐射固化; 图形加工; 印制电路;
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