脉冲电解制备纯铜的工艺条件
来源期刊：有色金属2004年第3期
论文作者：何建波 陈少华 鲁道荣 李学良
关键词：有色金属冶金; 铜; 脉冲电解; 工艺条件; 结晶形态;
摘 要：在小型电解槽中,研究脉冲电解法精炼铜的最佳工艺条件.脉冲电解参数为:平均电流密度500A/m2,脉冲宽度6.0ms,脉冲间隔12.0ms.结果表明,最佳电解工艺条件:电解温度30℃;硫酸浓度140～180g/L;极间距5～6cm;氯离子添加量3.0mg/L;硫脲添加量0.5mg/L;骨胶添加量0.75 mg/L;有害杂质允许含量(g/L),As3+≤0.1,Sb3+≤0.05,Bi3+≤0.05.
何建波1，陈少华1，鲁道荣1，李学良1
(1.合肥工业大学,化工学院,合肥,230009)
摘要:在小型电解槽中,研究脉冲电解法精炼铜的最佳工艺条件.脉冲电解参数为:平均电流密度500A/m2,脉冲宽度6.0ms,脉冲间隔12.0ms.结果表明,最佳电解工艺条件:电解温度30℃;硫酸浓度140～180g/L;极间距5～6cm;氯离子添加量3.0mg/L;硫脲添加量0.5mg/L;骨胶添加量0.75 mg/L;有害杂质允许含量(g/L),As3+≤0.1,Sb3+≤0.05,Bi3+≤0.05.
关键词:有色金属冶金; 铜; 脉冲电解; 工艺条件; 结晶形态;
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