硅膜制备
来源期刊：材料导报2005年第12期
论文作者：韩杰才 周玉锋 张宇民
关键词：硅膜制备; 物理气相沉积; EB-PVD; 化学气相沉积;
摘 要：介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍.此外还介绍了磁控溅射法、化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积法等硅膜制备方法的基本原理及特点,并对它们的优缺点进行了比较.
韩杰才1，周玉锋1，张宇民1
(1.哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨,150080)
摘要:介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍.此外还介绍了磁控溅射法、化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积、热丝化学气相沉积法等硅膜制备方法的基本原理及特点,并对它们的优缺点进行了比较.
关键词:硅膜制备; 物理气相沉积; EB-PVD; 化学气相沉积;
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