柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2007年第1期
论文作者：舒远杰 孙裔 杨盟 刁训刚 武哲
关键词：直流磁控溅射; 柔性衬底; ITO透明导电薄膜;
摘 要：利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了氧含量、薄膜厚度、衬底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响,优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件.制得样品的最佳可见光平均透过率为85.6%,方块电阻为6Ω/□.
舒远杰1，孙裔2，杨盟2，刁训刚2，武哲2
(1.中国工程物理研究院,化工材料研究所,四川,绵阳,621900;
2.北京航空航天大学,北京,100083)
摘要:利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了氧含量、薄膜厚度、衬底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响,优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件.制得样品的最佳可见光平均透过率为85.6%,方块电阻为6Ω/□.
关键词:直流磁控溅射; 柔性衬底; ITO透明导电薄膜;
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