Ni-Ti形状记忆合金电化学抛光工艺研究

来源期刊：材料保护2017年第11期

论文作者：聂云聪 李志永 严凤洁 魏修亭 李丽

文章页码：73 - 77

关键词：电化学抛光;Ni-Ti合金;粗糙度;抛光液;工艺;

摘    要：为提高Ni-Ti形状记忆合金的表面质量,以Ti50.8Ni（原子分数,%）为基材进行纳米级电化学抛光加工试验。基于自行研制的电化学抛光加工系统及抛光液,通过正交试验和单因素试验,分析了电流密度、抛光时间、抛光温度、电极间距等因素对电化学抛光的影响程度及影响机理。采用Micro XAM-100白光干涉仪对抛光试样进行检测。结果表明:最佳抛光工艺为电流密度J=1.0 A/cm2、电极间距d=15 mm、抛光时间t=140 s、抛光温度θ=15℃。在最佳工艺参数下抛光质量良好,试件表面粗糙度值显著降低至27.8 nm,表面平整均匀、光亮如镜。