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SAW器件用金刚石基c轴取向LiNbO3压电薄膜的制备

来源期刊:材料科学与工程学报2010年第6期

论文作者:王新昌 田四方 贾建峰 王前进

文章页码:810 - 1629

关键词:LiNbO3压电薄膜;金刚石/硅基底;脉冲激光沉积;

摘    要:采用脉冲激光沉积技术,在以c轴取向ZnO作为缓冲层的金刚石/硅基底上制备出了结晶良好的高c轴取向LiNbO3薄膜。利用X射线衍射对薄膜的结晶质量和c轴取向性进行了研究,结果表明制得的LiNbO3薄膜具有高度c轴取向且结晶质量良好。采用扫描电子显微镜和原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行了分析,发现薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,薄膜表面粗糙度约为20nm。

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SAW器件用金刚石基c轴取向LiNbO3压电薄膜的制备

王新昌1,2,田四方1,贾建峰1,王前进1

1. 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室2. 浙江大学硅材料国家重点实验室

摘 要:采用脉冲激光沉积技术,在以c轴取向ZnO作为缓冲层的金刚石/硅基底上制备出了结晶良好的高c轴取向LiNbO3薄膜。利用X射线衍射对薄膜的结晶质量和c轴取向性进行了研究,结果表明制得的LiNbO3薄膜具有高度c轴取向且结晶质量良好。采用扫描电子显微镜和原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行了分析,发现薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,薄膜表面粗糙度约为20nm。

关键词:LiNbO3压电薄膜;金刚石/硅基底;脉冲激光沉积;

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