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低纯度Si粉催化法反应烧结制备Si3N4陶瓷及其性能

来源期刊:稀有金属材料与工程2011年第S1期

论文作者:韩涛 金志浩 侯击波 杨万利 程军

文章页码:265 - 267

关键词:Si3N4;反应烧结;催化;氧化;

摘    要:以低纯度的工业级Si粉为原料,通过添加氧化锆,反应烧结制备氮化硅陶瓷材料,加入10%(质量分数)的氧化锆试样在4h的氮化时间内其氮化率相对于没有加入添加剂的试样从43%增加到94%以上,在1000℃,24h的氧化实验下,在氧化锆的试样中发现试样表面存在大量的微裂纹。研究表明,这是由于大量的ZrN聚集在氮化硅晶界,ZrN在氧化气氛下将会转变成ZrO2这将造成晶格转变引起裂纹产生。10%含量的试样表现出良好的抗氧化特性,其抗弯强度也能达到210MPa。

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低纯度Si粉催化法反应烧结制备Si3N4陶瓷及其性能

韩涛1,金志浩2,侯击波1,杨万利2,程军1

1. 中北大学2. 西安交通大学

摘 要:以低纯度的工业级Si粉为原料,通过添加氧化锆,反应烧结制备氮化硅陶瓷材料,加入10%(质量分数)的氧化锆试样在4h的氮化时间内其氮化率相对于没有加入添加剂的试样从43%增加到94%以上,在1000℃,24h的氧化实验下,在氧化锆的试样中发现试样表面存在大量的微裂纹。研究表明,这是由于大量的ZrN聚集在氮化硅晶界,ZrN在氧化气氛下将会转变成ZrO2这将造成晶格转变引起裂纹产生。10%含量的试样表现出良好的抗氧化特性,其抗弯强度也能达到210MPa。

关键词:Si3N4;反应烧结;催化;氧化;

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