Au/NiCr/Ta多层金属膜的表面粗糙度和纳米压入硬度的研究
来源期刊:金属学报2002年第5期
论文作者:徐可为 唐武 王平 李弦
关键词:Au/NiCr/Ta多层膜; 表面粗糙度; 纳米压入;
摘 要:采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积 Au/NiCr/Ta多层金属膜利用XRD分析晶体取向,SEM观察表面和断面形貌,AFM研究表面粗糙度,纳米压入研究薄膜硬度.结果表明薄膜表面粗糙度依赖于基体沉积温度,并且影响薄膜电阻和纳米硬度.
徐可为1,唐武1,王平2,李弦2
(1.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;
2.西安空间无线电技术研究所,西安,710000)
摘要:采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积 Au/NiCr/Ta多层金属膜利用XRD分析晶体取向,SEM观察表面和断面形貌,AFM研究表面粗糙度,纳米压入研究薄膜硬度.结果表明薄膜表面粗糙度依赖于基体沉积温度,并且影响薄膜电阻和纳米硬度.
关键词:Au/NiCr/Ta多层膜; 表面粗糙度; 纳米压入;
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