CVD法制取Fe-6-5% Si薄板的扩散工艺计算机模拟
来源期刊:东北大学学报(自然科学版)1999年第4期
论文作者:胡广勇 武保林 王刚 王轶农 C.Esling
文章页码:405 - 407
关键词:Fe-6-5%Si;CVD法;扩散;计算机模拟;
摘 要:在分析 C V D 法渗 Si 制备 Fe65 % Si 合金薄板的实际工艺要求基础上,择定了母材的 Si含量、扩散温度及气氛浓度·利用计算机模拟研究了在所确定条件下对一定厚度样品实施单步扩散和两步扩散的最佳处理工艺·模拟计算结果与实验符合较好·
胡广勇,武保林,王刚,王轶农,C.Esling
摘 要:在分析 C V D 法渗 Si 制备 Fe65 % Si 合金薄板的实际工艺要求基础上,择定了母材的 Si含量、扩散温度及气氛浓度·利用计算机模拟研究了在所确定条件下对一定厚度样品实施单步扩散和两步扩散的最佳处理工艺·模拟计算结果与实验符合较好·
关键词:Fe-6-5%Si;CVD法;扩散;计算机模拟;