溅射气压对HfO2薄膜结构和光学性能的影响
来源期刊：材料导报2012年第10期
论文作者：马紫微 苏玉荣 谢毅柱 赵海廷 刘利新 李健 谢二庆
文章页码：16 - 40
关键词：HfO2薄膜;溅射法;光学性能;光学带隙;
摘 要：HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
马紫微1,2，苏玉荣1，谢毅柱1，赵海廷1，刘利新1，李健1，谢二庆1
1. 兰州大学物理科学与技术学院电子材料研究所2. 运城学院物理与电子工程系
摘 要：HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
关键词：HfO2薄膜;溅射法;光学性能;光学带隙;
