脉冲激光沉积技术制备薄膜锂电池
来源期刊：功能材料2006年第2期
论文作者：秦启宗 赵胜利 文九巴 樊丽梅
关键词：脉冲激光沉积; 薄膜锂电池; 制备; 评述;
摘 要：脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)是20世纪80年代发展起来的一种全新的制备薄膜技术,具有沉积速率高,再现性能好等优点.近年来,利用PLD技术在全固态薄膜锂电池的研究中取得许多有意义的结果.一系列新型、高质量的电池薄膜材料被成功制备;原位组装的薄膜锂电池表现出良好的电化学性能.本文简要介绍了PLD技术的原理和特点;重点评述PLD在全固态薄膜锂电池阴极薄膜、阳极薄膜和电解质薄膜制备中的应用状况.
秦启宗1，赵胜利2，文九巴2，樊丽梅2
(1.复旦大学,激光化学研究所,上海,200433;
2.河南科技大学,材料学院,河南,洛阳,471003)
摘要:脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)是20世纪80年代发展起来的一种全新的制备薄膜技术,具有沉积速率高,再现性能好等优点.近年来,利用PLD技术在全固态薄膜锂电池的研究中取得许多有意义的结果.一系列新型、高质量的电池薄膜材料被成功制备;原位组装的薄膜锂电池表现出良好的电化学性能.本文简要介绍了PLD技术的原理和特点;重点评述PLD在全固态薄膜锂电池阴极薄膜、阳极薄膜和电解质薄膜制备中的应用状况.
关键词:脉冲激光沉积; 薄膜锂电池; 制备; 评述;
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